APCVD：大气压化学气相沉积
“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”经常缩写成APCVD，以便快捷书写、使用。
常见于学术科学领域 ,和电子相关。中文意思为：“大气压化学气相沉积”。
Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition具体释义
- 英文缩写：APCVD
- 英语全称： Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
- 英语发音：
- 美式英语发音：
- 英式英语发音：
- 中文意思：大气压化学气相沉积
- 中文拼音：dà qì yā huà xué qì xiāng chén jī
- 常用领域：学术科学
- 相关：电子
英文缩写词APCVD的例句
- TiN films were deposited on glass substrates by atmospheric pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) using titanium tetrachloride ( TiCl_4 ) and ammonia ( NH_3 ) as reactants, nitrogen ( N_2 ) as protective atmosphere and carrier gas in this paper.
- 本论文利用化学气相沉积法（APCVD），以TiCl4和NH3气体作为反应物，以惰性气体N2作为保护气体和载气，在玻璃基板上沉积TiN薄膜。
- The paper put forward an aim to deposit titanium films and TiO_2 / SnO_2 : F multiple films prepared by the method of dielectric barrier discharge atmospheric pressure chemical vapor deposition ( DBD-CVD ).
- 提出以介质阻挡放电化学气相沉积法（DBD-CVD）制备TiO2单层薄膜和TiO2/SnO2：F复合薄膜的实验目标。
- Structure and Hydrophilicity of Titanium Dioxide Film Prepared by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition(APCVD)
- AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究
- Growth and Properties of TiN Films on Glass by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition(APCVD)
- TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究
- The atmospheric pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) technique has a great application potential to be a method to prepared the economical tin oxide films for its simple equipment, inexpensive and suitable for mass production.
- 常压化学气相沉积法以其设备简单、成本低、易实现大面积镀膜等优点成为一种很有应用潜力的制备SnO2薄膜的方法，在镀膜玻璃的工业化生产中有广阔的应用前景。
注意：
英文缩写词 APCVD 的含义,不止“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”一个。
“APCVD”是什么缩写的意思？
本站收集到的APCVD英文缩写还有：
【学术科学】领域:
- Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition 缩写成 “APCVD”. 中文意思是：大气压力化学气相沉积
- Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition 缩写成 “APCVD”. 中文意思是：大气压化学气相沉积