RTCVD：快速热化学气相沉积
“Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition”经常缩写成RTCVD，以便快捷书写、使用。
常见于学术科学领域，和电子相关。
中文意思为：“快速热化学气相沉积”。
Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition具体释义
- 英文缩写：RTCVD
- 英语全称： Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
- 英语发音：
- 美式英语发音：
- 英式英语发音：
- 中文意思：快速热化学气相沉积
- 中文拼音：
- 常用领域：学术科学
- 相关：电子
英文缩写词RTCVD的例句
- 以 SSP 为 衬底 ， 采用 快速 热化学 气 相 沉积 （ RTCVD ） 法 生长 多晶硅 薄膜 ， 并 以此 制作 出 效率 为 293% 的 颗粒 硅 带 多晶硅 薄膜 太阳 电池 ， 这 在 国内 属 首先 。
- ThepolycrystallinethinfilmsweregrownbyRapidThermalChemicalVaporDeposition(RTCVD)onSSPribbons,andthepolycrystallinesiliconthinfilmsolarcellonSSPsubstratewasprepared.Theefficiencyofthecellreaches293%.
- 多晶硅 薄膜 的 快速 热化学 气 相 沉积
- Rapidthermalchemicalvapordepositionofpolycrystallinesiliconthinfilms
- 在 重 掺杂 非 活性 单晶硅 片 上 生长 一定 厚度 的 SiO2 ， 开 窗口 后 作为 衬底 ， 利用 快速 热化学 气 相 沉积 （ RTCVD ） 及 区 熔 再 结晶 （ ZMR ） 方法 制 备 多晶硅 薄膜 太阳 电池 。
- AftergrowingSiO2layerwithacertainthicknessonheavydiffusioninactiveCSiwafer,openingwindows,thenfabricatingpolycrystallinesiliconthinfilmsolarcellsonitwithRapidThermalChemicalVaporDeposition(RTCVD)andZoneMeltRecrystallization(ZMR)method.
- 采用 新近 研制 的 高 真空 / 快速 热 处理 / 化学 气 相 淀积 （ HV/RTP/CVD ） 系统 生长 了 应变 SiGe 材料 。
- ThestrainedSiGematerialhasbeengrownbyusingthenewlydevelopedHighVacuum/RapidThermalProcessing/ChemicalVaporDeposition(HV/RTP/CVD)system.